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关于芯片失效分析方法的讨论芯片失效分析实验室2022-10-17半导体工程师 赵工 2022年10月17日主要通过实践经验总结了一种关于芯片失效分析流程和方法,用于应对集成电路研发、生产和使用过程中不可避免的失效问题的分析,满足用户对高品质、高可靠性产品的要求。通过对芯片失效的充分剖析,从简到繁、从表面破损到内部具体电路损坏,通用性强,分析逐步深入,在一定程度上可以节约分析成本,快捷有效地找到失效具体位置、失效原因以及预防措施。芯片失效分析对产品的生产和使用都具有重要的意义,失效可能发生在产品生命周期的各个环节,包括:芯片后期测试环节的损坏、整机研发设计、存储、运输、贴片、加工组装、客户端等。针对这些环节出现的次品、早期失效、使用后期失效等坏片进行确认失效后的功能影响、分析失效实质问题、明确失效原因最终得出应对策略,减少甚至避免失效的发生。主要方法包括:充分明确分析对象,外观检查,芯片拆卸、清洗植球,系统级测试平台测试,工程机测试,必要时进行 FA 分析,总结失效原因、预防及改善方法。本文主要针对芯片出货之后产生的失效芯片的分析。1 明确分析对象当失效芯片分析人员拿到失效样品,不要急于开始分析,在分析操作之前要先确认以下几点:确认客户寄出的样品是否有误,避免无效工作;对收到失效样品进行分类,一般按照芯片型号、批次区分并编号;进一步确认失效样品失效的环节,是生产、销售、使用哪个具体环节产生失效品,如:贴片、组装、功能测试、高低温可靠性试验、客户端使用等。确认客户反馈失效的具体数据,生产总数、不良率、不良品发生是否是批次行现象等。2 外观检查通过目测或者显微镜等观察仪器检查芯片的外观是否有破损,如LQFP封装芯片的PIN脚是否有断裂痕迹,BGA封装的芯片 PAD 或者基板是否有氧化损伤等。3 芯片拆卸和清洗如果客户寄回的是整机,需要用相对应的方法将待分析失效分析芯片从样机上拆下,如果是客户寄回的是已拆卸的芯片那就无需这一步骤,直接进行相应的处理。LQFP 封装:芯片拆下后表面会有残留锡渣,需要使用烙铁与吸锡线将芯片管脚与中间地清理,然后将芯片放在超声波清洗,使用液体有洗板水或是酒精。BGA 封装:芯片拆下后锡球会形成不规则或是缺失,需要使用植球台工具或是刮锡膏的方法进行植球。4 系统级测试平台测试系统级测试平台测试是芯片量产测试最后一道测试使用的测试平台,将芯片各个模块通过功能测试的方法全部覆盖测试,是最接近芯片使用功能的测试手段。系统级测试是确认该样品是否是出货后的失效的关键手段,因此,分析的第一步是确认该批次的芯片出货前测试用的测试硬件版本和软件版本,失效样品首先在系统级测试平台使用当时量产测试使用的硬件版本和软件版本测试,若软件后期有优化更新的也需要用最新的测试硬件版本和对应的软件版本再进一步测试,记录测试结果。若失效样品在系统级测试平台测试结果正确,但是客户反馈样品功能失效,说明量产的系统级测试无法筛出,存在测试逃逸,测试硬件或者软件需要优化或者客户误报。若失效样品在系统级测试平台的测试结果是错误的,根据错误的具体测试项和错误情况进分析芯片失效点,同时也可以判断这是芯片出货后的某个环节发生的失效。5 工程机测试模拟客户使用环境,软件运行电压频率、场景、温度等,在工程机或者客户相应样机上进行测试。根据客户反馈的异常现象,在工程机上重点测试该功能,当然其他功能要覆盖到,看是否可以复现客户反馈的现象,并根据出错模块排查芯片的故障。若无法复现客户问题,可能是客户误判,或者进一步和客户沟通看硬件环境是否有差异,或者出现的特定环境。6 封装失效分析封装失效分析行业通常缩写为 FA 分析,主要方法有:外观测试,O/S 、IV 曲线测试、X-RAY 扫描、SAT 扫描、Decap 测试、Fault测试、Cratering测试、HFdelay、EMMI测试、LC测试。外观检查主要内容,灰尘、沾污、管脚变色、PIN脚断裂、封装裂逢、基板变形等。O/S,OPEN/SHORT测试用以确认在器件测试时所有的信号脚与测试系统相应的通道在电性能上完成了连接,并且没有信号脚与其他信号引脚,电源或地发生短路。能够非常快捷查找芯片各引脚是否开短路,以及封装是否有 wire cross 问题;芯片出现 O/S 现象,没有意义再进行功能与其它参数测试。IV 曲线测试,针取不良 PIN ,施加电压-3V-3V,电流-1MA-1MA,测试 PIN 脚电否异常。X-RAY扫描,利用X射线透视技术可以不打开封装情况下,观察电子元器件内引线断裂、交叉,BGA 的焊点失效。SAT 扫描,超声波扫描显微镜,其主要是针对半导体器件,芯片,材料内部的失效分析。其可以检查到:a,材料内部的晶格结构,杂质颗粒夹杂物、沉淀物;b,内部裂纹;c,分层缺陷;d,空洞、气泡、空隙等。Decap 测试,开封,即开盖/开帽,指去除 ic 封胶,同时保持芯片功能的完整无损,保持die, ads,wires 不受损伤,为下一步芯片失效分析实验做准备。Fault 测试,开盖后去除绑定线,对晶圆进行 IV 曲线测试。Cratering 测试,弹坑测试去除绑定后检查。HF delay,氢氟酸实验,氢氟酸是氟化氢气体(HF)的水溶液,为无色透明有刺激性气味的发烟液体,利用氢氟酸腐蚀 pad 表面,看 pad 低层是否有烧伤痕迹。LC 液晶热点侦测,利用液晶感测到 IC 漏电处分子排列重组,在显微镜下呈现出不同于其它区域的斑状影像,找寻在实际分析中困扰设计人员的漏电区域(超过 10mA之故障点)。LC可侦测因 ESD,EOS 应力破坏导致芯片失效的具体位置。EMMI微光显微镜是一种效率极高的失效分错析工具,提供高灵敏度非破坏性的故障定位方式,可侦测和定位非常微弱的发光(可见光及近红外光),由此捕捉各种元件缺陷或异常所产生的漏电流可见光EMMI侦测对应故障种类涵盖ESD,Latchup,I/O Leakage,等所造成的异常。芯片有发现短路时,但封装FA分析未发现封装异常和烧伤点时通过专业失效分析公司采用 EMMI 与 LC 两种方法进行测试,但是费用相当高昂。对于故障分析而言,微光显微镜(Emission Microscope,EMMI)是一种相当有用且效率极高的分析工具。主要侦测 IC内部所放出光子。对漏电流的侦测可达微安级别。LC(液晶热点侦测 Liquid Crystal)对漏电流的侦测仅达毫安级别。7 范例分析(1)问题描述。客户反馈:RKxxx 在 Ambers 机种量产不良率高,不良数 50PCS,投产 115827PCS,不良率:0.04%。不良现象:抓不到 USB。①量測+VDD_CORE1.2V=1.9V;②確認電壓偏大于正常板;③交叉驗證確認料件本體 NG(2)原因分析。收到 5pcs 芯片,重新植球,外观目视检查未发现异常;SLT 平台与 SVB 平台双向对比测试结果如下:SVB:也称为”SDK,工程机测试平台”,运行系统,针对芯片的各个接口与功能进行测试。SLT:system Level Test ,用于工厂生产芯片测试的平台。失效芯片 4#、5#进一步分析:(3)分析总结。本次分析 RKxxx 5pcs,良品 3PCS,不良品2PCS。2pcs 失效芯片确认是 EOS 导致损坏。8 失效分析意义通过失效分析可以减少和预防产品同类失效事故的重复发生,提高产品质量和减少经济损失。失效分析是可靠性工程必不可少的工作,是全面质量管理中的重要组成部分和关键技术环节。失效分析是处理客诉纠纷、责任认定、法律纠纷(仲裁)的依据。失效分析事件的三要素:侦测、诊断、事后处理。失效分析人员的要求。由于失效分析在整个芯片的验证过程中非常重要,也比较复杂与特殊性,失效分析人员除要有扎的理论基础以外,还应不断地结合实践,逐步培养,并应具备以下基本素质:做个老实人,说个老实话,一切以真实为主,不作假;多动脑筋,用各种仪器与方法,用怀疑一切的态度把关捕捉失效的信息和证据;保持续头脑清醒,用正确的思路去寻找一切可能怀疑的问题;学习要认真,多向身边的同事学习。积极向上,寻找自己的不足之处;要有扎实的专业基础知识和较广的知识面,工作能力要强,办事效率要高。9 结语本文针对芯片失效分析的问题提出了分析手段与解决方法,通过对芯片失效的基本原理及各种失效形式的分析,提出了各种验证方法。探究了几种验证手段与分析方法的的实用性。随着科学技术的不断进步,我相信在未来的芯片失效分析工作中将会研究出更多的芯片失效的分析方式方法,提高芯片性能与使用寿命,促进集成电路的的发展。相信在不久的将来,基于实际的芯片失效分析一定会更加广泛地应用于芯片企业。来源:半导体封装工程师之家 作者:黄美莲
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发布人赵工
公司国软检测失效分析部
职位失效分析实验室工程师
城市北京市
发布时间2022/10/17 07:54
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赵工
建议收藏 划片机发展历程芯片失效分析 半导体工程师 2023-02-11 08:37 发表于北京前几天发了晶圆划片文章,反响强烈,不少粉丝要求做进一步介绍,今天请专业人士为你整理了晶圆划片发展历史沿革,供你参考,用得着的可以点赞评论分享给需要的人。划片机发展历程原来划片机经历了这三个阶段精密划片机主要用于硅片、陶瓷、玻璃、砷化镓等材料的加工,也被广泛应用于集成电路 (IC)、半导体等行业。划片机作为半导体芯片后道工序的加工设备之一,用于晶圆的划片、分割或开槽等微细加工,其切割的质量与效率直接影响到芯片的质量和生产成本。图片纵观过去的半个世纪,大规模集成电路时代已向超大规模方向发展,集成度越来越高,划切槽也越来越窄,其对划片的工艺要求越发精细化。迄今为止,在芯片的封装工序中,划片工艺的发展历史大致可分为以下三个阶段。第一阶段:金刚刀划片机19世纪60年代是硅晶体管的发展初期,当时主要应用的划片装置是金刚石划片机,采用的是划线加工法,类似于划玻璃的原理。在晶片的切割街区划出宽2-5μm,深0.15-1.5μm的切线,再从划过线的晶片背面,用圆柱状的碎片工具边压边搓的分裂方法,将晶片分裂成单个芯片。这种方法非常依赖于人工操作,换句话说,操作人员的经验成分占比很大,加压分裂的依赖性就更大。因此,加工成品率很低。第二阶段:砂轮划片机六十年代中期进入集成电路时代,晶圆开始向2英寸、3英寸等大直径化发展。同时,晶圆厚度也从100微米加厚到200-300μm。就器件的划线街宽而言,晶体管发展到了60-100μm,IC为100-150μm,但是当时的砂轮刀片的厚度为150-200μm。在这种情况下,采用原来的工艺方法并不适用。此时,日本研制出世界第一台极薄金刚石砂轮划片机,预示着划片机进入了薄金刚砂轮划片机时代。这种砂轮划片机有效避免了晶圆的裂开性和切槽崩边现象。其原理是通过电沉积法研制而成,即将金刚石粉附着在电镀的金属膜上,因沙粒与沙粒间的间隙被金属填满,增大了沙粒间的粘结力和砂轮的整体韧性,不会产生像树脂和金属粘结剂制成的砂轮上那样的气孔,达到了切割晶圆的实用目的。激光划片机在当时也被认为是接近半导体划片工序的理想设备。其是采用激光束的光熔化硅单晶而进行切割,与金属熔断的加工工艺相似。因此,在切割晶体时烧出的硅粉会四处飞溅,气化状的硅微粒子附着在芯片表面造成污染,芯片也就不能用了。这也是激光划片机的致命缺点。第三阶段:自动化划片机对于金刚刀划片机和砂轮划片机来说,主要目的是提高划片的成品率。但是,随着半导体的需求和产量逐渐增大,对效率的要求越来越高。此时,就有了自动化划片机的需求。自动化划片机主要分为半自动和全自动两种类型。半自动划片机主要是指被加工物的安装及卸载作业均采用手动方式进行,只有加工工序实施自动化操作的装置。而全自动划片机可全部实现全自动化操作。自从进入大规模集成电路时代之后,器件的设计原则开始追求微细化,即在提高元件工作速度的同时,减小芯片的面积。这时晶圆的线宽已经发展到5μm、3μm,甚至达到1μm左右。由于芯片表面图形复杂,若在划片时产生磨屑附着在刀片上,在以后的工序中,不仅会造成电气短路,封装好后,芯片工作发热也会使得硅屑向四周扩散,致使保护膜和铝线变质。因此,划片自动化需要充分考虑划片过程中所包含的各种不良因素,比如机床校准、自动划片、故障诊断、各部件功能、性能和可靠性等。目前,国际市场上的自动化划片机已有效解决上述问题,且半自动划片机已实现切割速度为800mm/s,定位精度≤5μm ;全自动切割速度最高达1000mm/s,定位精度≤2μm。我国真正开始研制砂轮划片机是从70年代末开始的,一直到1982年研制出了第一台国产化的砂轮划片机。经过三十多年的努力与追赶,国内自主研发的金刚砂轮划片机性能已基本与国际市场持平。例如,深圳博捷芯的单轴、双轴精密划片机,不仅切割精度均≤2μm,且实现6、8、12英寸一机兼容。图片博捷芯(深圳)半导体有限公司,是一家专业从事半导体材料划片设备及配件耗材的研发、生产、销售于一体的高新技术企业。公司专注于半导体材料精密切磨领域,成功研制出兼容12、8、6英寸自动精密划片设备,建设并完善了该设备的标准产业化生产线,力求为客户提供优质的划切设备与完整的划片工艺解决方案。目前已成功研制并量产 LX3352单轴高端精密划片机,兼容6-12英寸材料切割,设备性能均超国际标准。更建立了完善的交货和售后保障,缩短交货周期至3个月,并能对客户在用的国外品牌部分设备进行维护。产品适应于半导体领域不同材料的复杂精密切割,广泛应用在半导体集成电路、GPP/LED氮化镓等芯片、分立器件、LED封装、光通讯器件、声表器件、MEMS等芯片划切生产中。好啦,把划片机发展历程转给需要的人吧。你对划片机还有什么想说的可以留言互动哦,小编第一时间为您精选。图片赵工134********zhaojh@kw.beijing.gov.cn欢迎各公众号,媒体转载,申请加白名单秒通过

赵工
半导体芯片失效分析实验室汇总随着半导体技术的发展,芯片已经成为现代电子产品中不可缺少的部分。然而,芯片在长时间运行后可能会出现失效或故障,这将导致电子产品无法正常使用。为了解决这个问题,半导体芯片失效分析实验室应运而生。半导体芯片失效分析实验室是一种专门用于分析芯片故障原因和找出解决方案的实验室。它主要由多种设备和技术组成,包括光学显微镜、扫描电子显微镜、离子注入系统、穿透电子显微镜、电子束刻蚀机等。半导体芯片失效分析实验室可以用于以下方面的分析:1.失效分析如果芯片出现了故障,失效分析可以用来找出导致问题的原因。分析的过程通常包括对芯片进行非常规测试,如X射线衍射、扫描探针显微镜和热分析等,以找出故障根源,如堆积缺陷、擦除缺陷、漏电等。2.质量控制半导体芯片失效分析实验室也可以用于质量控制,以确保每个芯片都符合准确的规格和标准。质量控制分析通常包括对芯片进行成品检验,如外观检查、电性能测量和可靠性测试等。半导体芯片失效分析实验室汇总1.北京软件产品质量检测检验中心芯片失效分析实验室(简称:北软检测)成立于2002 年7月。北软芯片失效分析实验室可以进行全流程的失效分析,可靠性测试,安全验证等。主要包括点针工作站(Probe Station)、反应离子刻蚀(RIE)、微漏电侦测系统(EMMI)、X-Ray检测(2D X-ray,3D X-ray)、超声波扫描显微就(SAT)、缺陷切割观察系统(FIB系统)、体式显微镜、金相显微镜、研磨台(定点研磨,非定点研磨,封装研磨)、激光黑胶层取出系统(自动decap,laser decap)、自动曲线追踪仪(IV)、切割制样模块、扫描电镜(SEM)、能谱成分分析(EDX)、交变温湿度试验箱、高温储存试验、低温存储试验、温湿度存储试验等。通讯地址:北京市海淀区东北旺西路8号中关村软件园3A楼联系人:赵工 2.南京微电子技术研究所半导体芯片失效分析实验室南京微电子技术研究所半导体芯片失效分析实验室是国内最早成立的芯片失效分析实验室之一。实验室配备有先进的设备和技术,可对芯片的物理结构、器件参数、芯片性能、线路连接等方面进行全面的分析和测试。3.上海半导体研究所失效分析实验室上海半导体研究所失效分析实验室成立于2005年,是一家具备IC生产能力的高新技术企业。实验室在芯片失效分析领域积累了丰富的经验和成果,并不断引入先进的设备和技术,为客户提供高水平的技术支持和服务。4.北京中科微电子有限公司失效分析实验室北京中科微电子有限公司是一家专业从事半导体封装测试与分析的公司。实验室配备有一批优秀的专业技术人员和一流的设备,能够为客户提供全面、高效的失效分析服务。5.惠州半导体失效分析中心惠州半导体失效分析中心是惠州市政府支持的创新创业平台,依托留学海归、国内外知名院校科研机构等优势资源,致力于半导体失效分析领域的研发和服务。6.中国电子科技集团公司第十四研究所该实验室成立于20世纪80年代,针对集成电路芯片的失效问题,建立了先进的实验室设备和完整的芯片失效分析技术流程。这些技术流程包括非常规样品处理、样品制备、分析测试和故障分析定位等。该实验室能够对各种类型的芯片进行失效分析,如DRAM、NOR FLASH、SRAM、Flip Chip等。7.中国电子科技集团公司第五十五研究所该实验室成立于20世纪90年代,主要研究领域是空间电子电路可靠性和失效分析。在芯片失效分析方面,该实验室研究了很多芯片失效的根本原因和解决办法。例如,该实验室率先提出了在高温下检测集成电路失效的方法,推出了系列失效分析和故障定位技术。8.中国航天科工集团有限公司第六十所该实验室成立于20世纪90年代初期,由中国第一位半导体芯片设计师胡启恒教授领导,主要研究集成电路的失效分析和检测。该实验室在失效分析方面的主要技术包括侵入式和非侵入式技术、信号分析、快速失效分析以及优化分析等。此外,该实验室还开创了集成电路失效分析的新技术领域。9.南京微米尺度材料分析与应用国家级实验室该实验室拥有完整的半导体芯片失效分析实验平台及技术团队,能够进行芯片性能评估、芯片分析、缺陷定位和失效机理研究等多方面的工作,可为企业提供完整的半导体芯片失效分析服务。10.北京微电子所半导体芯片失效分析实验室该实验室依托于北京微电子所,能够利用所拥有的半导体芯片分析技术和完善的实验平台,提供专业的半导体芯片失效分析服务,包括芯片失效原因分析、失效机理研究、失效模拟与验证等多方面的服务。11.武汉微纳电子制造国家工程研究中心半导体芯片失效分析实验室武汉微纳电子制造国家工程研究中心依托于华中科技大学,其半导体芯片失效分析实验室拥有全套高端的半导体芯片失效分析仪器,为企业提供完整的半导体芯片失效分析服务,涉及芯片失效原因分析、失效机理研究、失效模拟与验证等多方面的服务。12.上海微电子设备有限公司半导体芯片失效分析实验室该实验室作为上海微电子设备有限公司的技术支持,结合上海微电子设备有限公司的芯片检测与分析设备,可为企业提供完整的半导体芯片失效分析服务,包括芯片失效原因分析、失效机理研究、失效模拟与验证等多方面的服务。以上仅是部分中国半导体芯片失效分析实验室,随着技术的不断更新和进步,相信未来将会涌现更多实验室,并且实验室之间也将进行更多的协作与交流,加速半导体芯片失效分析技术的发展和普及。国内较为知名的半导体芯片失效分析实验室还有中芯国际、台积电、联芯科技等。这些实验室拥有一流的实验设备和技术人才,可以开展多种类型的半导体芯片失效分析工作,并为客户提供专业的技术支持和服务。此外,在国际上也有多家著名的半导体芯片失效分析实验室,如SiliconExpert、IEEE Components Partitioning and Analysis Center等。这些实验室不仅具备高水平的技术装备和技术人才,还通过与多家知名公司合作,积累了丰富的经验和数据资源。同时,这些实验室还开展了大量的研究工作,不断推动半导体芯片失效分析领域的发展。总之,半导体芯片失效分析实验室在提高半导体芯片可靠性方面起着至关重要的作用。希望通过本文的介绍,可以帮助大家了解半导体芯片失效分析实验室的相关情况,为半导体芯片失效分析工作提供参考和支持。

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突发!小米被乌制裁!失效分析 赵工 半导体工程师 2023-04-17 10:42 发表于北京4月13日,乌克兰国家预防腐败局发布公告,将小米公司列入所谓“国际战争资助商”名单,进而施加制裁。图片所谓的“国际战争资助商”名单,列入了乌方认为在俄乌冲突爆发以来一直在“资助”俄罗斯的多家外国企业。但实际上,它们大多仅仅是没有在去年2月24日之后撤出俄罗斯市场的外国企业。目前,乌克兰国家反腐败局已将21家公司列入战争国际赞助商名单。据乌克兰国家反腐败局的新闻稿件显示,将小米公司列入“国际战争资助商”名单的原因是,小米公司被列入名单的理由是,“该公司继续在侵略者俄罗斯境内开展业务,并且在俄罗斯智能手机市场一直保持领头羊的地位。”该公告还列举了一些小米公司扩大其驻俄罗斯办事处人员规模的行为,称这意味着小米公司希望扩大在俄罗斯市场的存在。因此,作为“恐怖主义国家(指俄罗斯)的军事侵略的赞助商”,小米公司“必须承担法律上和名誉上的后果”。图片据悉,自2018年至今,小米在俄罗斯在线商店的销售中排名第一,并在整个俄罗斯拥有庞大的线下官方授权零售网络。乌国家反腐败局称,从2022年第三季度的数据来看,与前一季度相比,小米向俄罗斯的供货量增加了39%。乌怀疑,小米由此2022年在俄罗斯市场的份额翻了一倍,成为该国的智能手机销售领导品牌。此外,小米目前正在积极恢复其在俄罗斯办公室的招聘工作,这也成为被乌怀疑的行径。该新闻稿未提到,小米也于2016年第三季度进入乌克兰市场,进入时间较早。根据Canalys数据显示,在短短两年后的2018年第四季度,小米手机在乌克兰的市场份额就已达到26.7%,并且赢得乌克兰智能手机销量冠军。此后小米手机的销量一直稳居前列。图片14日,小米公司发布声明回应称,严格遵守经营所在地法律法规,强烈反对乌国家腐败预防局做法。根据小米公告,小米表示,我们坚信全球每个消费者都应该有获取通讯工具和互联网信息的权利。我们在全球一百多个国家及地区开展消费者业务,并严格遵守经营所在地的法律法规。小米对被乌克兰国家预防腐败局列入“战争资助商”名单一事表示强烈反对。“我们希望世界和平,从不支持战争。我们的使命是坚持做感动人心、价格厚道的好产品,让全世界每个人都能享受科技带来的美好生活。”小米最后表示。图片来源:半导体行业圈
赵工
半导体精密划片机行业介绍及市场分析博捷芯半导体 半导体工程师 2022-12-11 09:22 发表于北京一、精密划片机行业介绍划片机是使用刀片或通过激光等方式高精度切割被加工物的装置,是半导体后道封测中晶圆切割和WLP切割环节的关键设备。随着集成电路沿大规模方向发展,划片工艺呈现愈发精细化、高效化的趋势。从19世纪60年代采用划线加工法依赖于人工操作的金刚刀划片机,到1968年英国LP公司发明的金刚石砂轮划片机采用研磨的工艺替代了传统的划线断裂工艺,再到后续的自动化划片机进一步提升了划片的效率。目前划片机广泛用于半导体封测、EMC导线架、陶瓷薄板、PCB、蓝宝石玻璃等材料的精密切割领域。半导体晶圆划片机是将含有很多芯片的wafer晶圆分割成晶片颗粒,切割的质量与效率直接影响芯片的质量和生产成本。半导体晶圆划片机主要包括砂轮划片机和激光划片机,砂轮划片机是综合了水气电、空气静压高速主轴、精密机械传动、传感器及自动化控制等技术的精密数控设备,其特点为切割成本低、效率高,适用较厚晶圆的切割。激光划片机是利用高能激光束照射工件表面,使被照射区域局部熔化、气化,从而达到划片目的,其特点为切割精度高、切割速度快,适用于较薄晶圆的切割。二、划片工艺1、工艺比较刀片切割方法包括一次切割和分步连续切割。效率高、成本低、使用寿命长。它是使用最广泛的切割工艺,在较厚的晶圆(>;100微米)上具有优势。激光切割具有高精度和高速度。它主要适用于切割较薄的晶圆(<;100微米)。切割较厚的晶片时,存在高温损坏晶片的问题,需要刀片进行二次切割。此外,激光头价格昂贵,使用寿命短。目前,刀片切割占市场份额的80%,激光切割仅占20%。刀片切割预计将长期保持主流模式。 2、主流技术金刚石切割是切割的主流技术。切割采用金刚石颗粒和粘结剂组成的刀片。切削过程中,金刚石颗粒以金属镍作为磨料颗粒固定在工具体上。刀片以一定的速度旋转和进给,并使用水作为切削液。在切割过程中,金刚石颗粒膨胀并与粘合剂形成称为“夹屑槽”的结构,铲挖切割通道材料,然后将其分离。在切割过程中,金刚石颗粒不断磨损,暴露出新的颗粒,保持刀片锋利并清除切割碎屑。切割过程中产生的碎屑会粘附在刀片上,因此在切割过程中尽量防止切割碎屑粘附,并妥善处理切割碎屑,以确保刀片在切割过程中的正常运行。 对于金刚石切割,金刚石颗粒越大,刀片的切割能力越强,金刚石颗粒的磨损越慢,叶片使用寿命越长。但是,颗粒越大,切削过程对切削表面的影响越大,容易造成裂纹、崩边等严重缺陷。较小的金刚石磨粒可以减少切割过程中对切割表面的影响,并减少出现较大切割缺陷的风险。但是,如果金刚石不能及时脱落和更新,很容易包裹刀具,导致刀片的切割能力急剧下降和严重缺陷。 刀体的金刚石颗粒浓度将显著影响切割切屑的质量。当金刚石颗粒浓度较大时,金刚石颗粒会随着粘结剂的磨损及时脱落和更新,有利于延长刀片的使用寿命。此外,粘结剂越软,金刚石越容易脱落,反之亦然。因此,使用较硬的粘结料进行切割会对切割表面造成严重损坏,而较软的粘结料冲击较小,损坏较小。金刚石粒度和浓度的选择应与粘结剂的类型相结合,并应综合考虑。 3、切割划片流程芯片被晶圆切割成单独的颗粒,然后被芯片封装后即可使用。划片时,应控制划片刀的移动速度和划片刀的旋转速度。不同芯片的厚度和蓝色薄膜的粘度需要有相应的匹配参数,以减少划片过程中的碎片现象。切割过程中残留的硅渣会损坏切割工具和切屑,导致成品率损失。切割过程中,需要用清水清洗以去除硅渣,并控制喷射角度和水量。 金刚石刀片以每分钟30000-40000转的高速切割晶圆块。同时,承载晶片的工作台沿刀片与晶片接触点的切线方向以一定速度直线移动,切割晶片产生的硅片被分离器水冲走。为了在划片过程中达到特殊的切屑表面保护效果,一些切屑需要在所有切割中切割两次。此时,用于第一次切割的刀片相对较宽,用于第二次切割的刀片相对较窄。 4、影响切割质量的因素影响晶圆切割质量的因素很多,包括材料、切割仪器、工作环境、切割方法等因素。从材料的角度来看,硅片的硅衬底和电路层材料在硅片切割过程中会导致不同的机械性能。不同材料的刀片的选择会对切割方法有不同的要求,因此会表现出不同的切割质量。从切割仪器的角度来看,由于不同机器的切割功率不同,切割台的选择也会影响切割质量。从工作环境来看,冷却水的压力和流量是影响切削质量的因素。水流速度过慢会导致冷却效果不足,切割摩擦产生的热量难以及时排出和积累,可能导致金刚石磨粒破碎,降低刀片的切割能力和切割精度,并因切割碎屑无法及时清除而影响刀片的切割能力。从切割方式来看,主要涉及切割深度、刀片转速和进给速度。适当的参数对于获得良好的切削质量非常重要。其他因素,如机器操作技能,也会影响晶圆切割质量。5、切割缺陷晶圆切割容易产生的缺陷类型主要有裂纹、崩边和剥落。这些缺陷可能对芯片造成直接损坏,也可能影响芯片的后续封装和后续使用可靠性。例如,切割产生的微裂纹会将应力引入芯片,成为潜在的芯片脆弱区域,影响封装后的可靠性。在切割过程中,芯片受到强力刀体的冲击,金属层和硅基片脱落。如果边缘塌陷过大,损坏芯片的功能区域,将直接导致芯片失效。切割过程中的冲击导致的金属层分层,虽然硅基板没有损坏,但通常不会导致芯片的功能损坏,但如果剥离面积较大并延伸到功能区,也非常危险。3、 市场结构 1、行业企业简介国内划片设备公司目前主要有深圳博捷芯半导体等企业。高精度气浮主轴是划片机的核心部件,是国内厂家真正实现划片机自主可控技术的关键。目前,国内划片机厂家的气浮主轴主要是进口采购。 2、市场份额2021全球封装设备市场将达到约70亿美元,占全球半导体设备市场的6.8%。2021,晶圆切割机的全球市场份额约为20亿美元。根据半导体封装设备细分市场的市场份额,贴片机、划片机和引线机在封装设备市场的市场份额分别为30%、28%和23%。结合2021全球包装设备总市场,三大包装设备的相应市场空间分别约为21亿美元、19.6亿美元和16.1亿美元。中国密封和测试的生产能力约占世界的25%。2021,中国半导体切割机市场约为4.9亿美元,约32-36亿元 3、工艺比较 由博捷芯半导体深圳工厂自主研发团队带领,业界最主流、最先进的12英寸全自动晶圆切割切割设备成功国产化,受到国内外顶尖客户的高度认可。截至2021年初,该公司已从国内多家公司获得DEMO订单。截至2021年底,博捷芯半导体生产的半导体切割机已从数家密封企业获得产品订单。 目前,博捷芯半导体中国的市场份额逐渐增加。作为国内划片机行业四大企业之一,未来,随着国内生产能力的不断提高、人才的不断积累和技术的不断吸收,将依靠国内成本优势,占领更多的国内外市场。不可否认,国内企业市场份额的提高有赖于海外企业的收购,但国内替代的局面已经打开。 随着国内半导体行业的不断发展和产品需求的不断上升,国内芯片制造能力的不断扩大以及封装和测试能力的不断提高,也带来了对划片机的更多需求。最后,划片机具有巨大的全球和国内市场容量、快速增长和巨大的市场潜力。这些将有助于逐步实现国内替代,在划片机领域也有良好的投资机会。来源:博捷芯划片机
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